اهداف کندوپاش سرامیکی
-
![هدف پراکنده 4N ZrO2 با صفحه پشتی مس]()
هدف پراکنده 4N ZrO2 با صفحه پشتی مساهداف کندوپاش دی اکسید زیرکونیوم ما با صفحات پشتی با استفاده از مواد-زیرکونیوم دی اکسید با خلوص بالا ساخته می شوند که به طور ایمن به یک صفحه پشتی فلزی متصل شده اند. این طراحی اتلاف سریع گرما و...بیشتر -
![هدف کندوپاش ZrC با صفحه پشتی مس]()
هدف کندوپاش ZrC با صفحه پشتی مساهداف کندوپاش زیرکونیوم کاربید (ZrC) ما با صفحات پشتی مسی دارای پیوند محکمی بین مواد هدف ZrC{0}}با خلوص بالا و پوشش مسی هستند. این طراحی هدایت حرارتی و الکتریکی عالی را تضمین می کند، اتلاف سریع...بیشتر -
![Ta 5at% دوپ شده ZrC Sputtering Target]()
Ta 5at% دوپ شده ZrC Sputtering Targetدوپینگ دقیق زیرکونیوم کاربید با نسبت 5 درصد اتمی تانتالوم به طور قابل توجهی مقاومت در برابر حرارت، مقاومت در برابر شوک حرارتی و مقاومت در برابر خوردگی ماده مورد نظر را افزایش می‌دهد. با داشتن خلوص...بیشتر -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering Targetاهداف کندوپاش 4N IGZO ما عملکرد کندوپاش پایدارتر و کارآمدتری را ارائه می دهند. برای کاربردهای نمایشگر{2}بالا و نیمه هادی ها تخصصی، آنها تحرک برتر الکترون و وضوح تصویربرداری را تسهیل می کنند.بیشتر -
![هدف 4N HfO2 با صفحه پشتی مس]()
هدف 4N HfO2 با صفحه پشتی مسهدف پراکنده 4N HfO2 با پشتی مسی از مواد اکسید هافنیوم با خلوص 99.99 درصد استفاده می کند. یکپارچه با پشتی مسی، هدایت حرارتی عالی را ارائه می دهد و برای فرآیندهای پوشش نوری، تولید نیمه هادی و...بیشتر -
![4N HfO2 دوپ شده با هدف 2% Ti]()
4N HfO2 دوپ شده با هدف 2% Tiهدف کندوپاش 2% Ti-دوپ شده HfO2 با استفاده از یک بستر اکسید هافنیوم با خلوص بالا، دقیقاً با 2% تیتانیوم ساخته شده است. که با یکنواختی ترکیبی و چگالی بالا مشخص می شود، برای کاربردهای پوشش نوری، رسوب...بیشتر -
![4N HfO2 هدف کندوپاش]()
4N HfO2 هدف کندوپاشهدف پاشش دی اکسید هافنیوم 4N با خلوص بالا (99.99% خلوص)—مناسب برای کاربرد در پوشش های نوری، نیمه هادی ها و الکترونیک دقیق. دارای چگالی بالا، ترکیب یکنواخت و عملکرد کندوپاش پایدار.بیشتر -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering Targetاین محصول با استفاده از مواد اولیه کاربید بور با خلوص بالا- دارای سختی استثنایی و پایداری حرارتی قوی است که آن را برای کاربرد در تولید نیمه هادی، پوشش های نوری و ساخت فیلم های مقاوم در برابر سایش...بیشتر -
![ذرات HfC سفارشی]()
ذرات HfC سفارشیشرح ذرات سفارشی HfC ذرات HfC معمولاً با واکنش دی اکسید هافنیوم (HfO2) با کربن در دماهای بالا (1900-2300 درجه) در یک اتمسفر بی اثر یا احیاکننده سنتز می شوند. هسته سفارشی سازی ذرات کاربید هافنیوم...بیشتر -
![هدف کندوپاشی اکسید قلع (SnO2).]()
هدف کندوپاشی اکسید قلع (SnO2).هدف اکسید قلع (SnO2) یک ماده غیرآلی مهم غیرفلزی است. به دلیل خواص فیزیکی و شیمیایی منحصر به فرد خود، نقش مهمی در بسیاری از زمینه های با تکنولوژی بالا ایفا می کند. ویژگی های اصلی آن عبارتند از نقطه...بیشتر -
![هدف کندوپاشی اکسید تانتالم (Ta2O5).]()
هدف کندوپاشی اکسید تانتالم (Ta2O5).هدف پراکنده اکسید تانتالیوم را می توان در نیمه هادی ها، رسوب بخار شیمیایی (CVD)، نمایش رسوب فیزیکی بخار (PVD) و کاربردهای نوری استفاده کرد. ما تامین کننده تانتالوم اکسید با کیفیت بالا با قیمت های...بیشتر -
![هدف کندوپاشی اکسید تیتانیوم (TiO2).]()
هدف کندوپاشی اکسید تیتانیوم (TiO2).دی اکسید تیتانیوم (TiO2) پرمصرف ترین رنگدانه سفید است، به عنوان مثال در رنگ. دارای روشنایی بالا و ضریب شکست بسیار بالا (2.609 برای روتیل).بیشتر
ما تامین کنندگان هدف های کندوپاش سرامیکی حرفه ای در چین هستیم که در ارائه خدمات سفارشی با کیفیت بالا تخصص داریم. ما به گرمی از شما استقبال می کنیم که هدف های کندوپاش سرامیکی با تخفیف را در اینجا خریداری کنید و نمونه رایگان را از کارخانه ما دریافت کنید. برای مشاوره قیمت با ما تماس بگیرید.